自从收到美国升级华为禁令的消息，国产芯片行业被推到风尖浪口，而且这段时间里不断传出关于国产芯片的负面消息。确实，华为目前正面临着芯片断供的危机，而中芯国际、联发科等国产芯片巨头爱莫能助，很多人都在为华为的困境揪心。

　　至于国产芯片企业为什么不能对华为伸出援助之手，相信大家已经有所了解。总结出来无非就是，国产芯片技不如人，不能摆脱对美国技术的依赖。众所周知，光刻机一直是我国半导体技术的痛点，想要制造出高端芯片就离不开高端光刻机，ASML光刻机最先进的工艺已经达到5nm，然而上海微电子的国产光刻机技术还停留在90nm，此前传闻即将面世的28nm工艺迟迟未能够落地，可见国产光刻机与ASML的差距。

　　在美国处处打压之下，国产芯片技术发展速度较为缓慢。好在我国并没有放弃光刻机自研的道路，功夫不负有心人，我国光刻机终于也传来了一次又一次捷报。

　　先是上个月北京大学教授团队研发出碳纳米晶体管材料，能够代替高纯度的硅晶片，对于芯片制作工艺较为落后以及缺乏高端光刻机设备的国产芯片行业来说，这个半导体新型材料的出现无疑是一大突破。更值得关注的是，6月24日上交所正式受理了北京华卓精科科技股份有限公司科创板上市申请，这个公司打破了ASML公司技术垄断之一，是全球第二家拥有双工件台核心技术的企业。

　　想要打破ASML的光刻机垄断，归根结底还是要实现技术突破，华卓精科实现光刻机双工件台核心技术的突破，无疑是国产芯片企业崛起的一大好消息。而这个技术研发成功背后最大的功臣，是清华大学教授带领的团队。

　　业界人士称，该技术在上海微电子自主研发65nm至28nm光刻机过程中发挥着重要作用。此前日本尼康社长称，光刻机双工件台的技术极为复杂，中国不可能拿下这项技术。不过在清华教授可朱煜的带领下，研发团队用5年时间完成了别人口中不可能完成的项目，成功打破ASML的技术垄断。

　　尽管国产光刻机与ASML的高端光刻机还存在较大的差距，但是我国科研人员正在努力的缩小差距，中国芯值得大家期待。

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