IT之家7 月 27 日消息作为半导体工业皇冠上的明珠，光刻机代表着人类文明的智慧结晶。现在，为了让更多人深入了解光刻机，ASML 专门打造了一座“追光实验室”等你来体验。

　　IT之家获悉，在 ASML 这个特殊的实验室里面，你不仅可以沉浸式地了解光刻机内部的工作原理，还有丰富的 AR 互动深入了解光刻机的内部及其背后的技术原理，体验不断探索极限的科技魅力。

　　IT之家获悉，7 月 28 日中午 12 点起，ASML 的“追光实验室”将正式对外开放，快来挑战所有关卡，领取你的专属打卡。

　　在这里，你可以通过 AR 技术进入 ASML 光刻机的内部，探索光源走过的每一个步骤，领略 ASML 是如何挑战瑞利判据，和摩尔定律赛跑，实现更小的线宽，在纳米世界里做极限的攀登者。

　　当传统的干式光刻机日趋极限，线宽如何继续缩小成为当时业内担忧的发展瓶颈。ASML 成功地推出了浸润式光刻机，用折射率大于 1 的水作为媒介，实现物镜数值孔径的增大，帮助最小分辨率得到提升，开辟了半导体行业技术的新世界。

　　这里有一个互动小游戏，让你可以由浅入深地了解“浸润式技术”的发展轨迹和背后用到的光学原理。

　　晶圆在进入光刻流程前要先进行测量和对准，此前的光刻机只有一个工作台，测量、对准、光刻等所有流程都在这一个工作台上完成。而 ASML 推出的双工作台系统（TWINSCAN system），即一个工作台在给晶圆进行曝光的同时，另一工作台可对下一片需曝光的晶圆进行测量，实现测量和曝光的无缝衔接，极大地提高了生产效率。

　　广告声明：文内含有的对外跳转链接（包括不限于超链接、二维码、口令等形式），用于传递更多信息，节省甄选时间，结果仅供参考，IT之家所有文章均包含本声明。